產(chǎn)品介紹

XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀

   XTrace是一款可搭配在任意一臺(tái)具有傾斜法蘭槽 SEM上的微焦點(diǎn)Ｘ射線源。利用該設(shè)備可使SEM具備完整意義上的微區(qū) XRF光譜分析能力。對(duì)于中等元素至重元素范圍內(nèi)的元素，其檢測(cè)限提高了 20-50倍。此外，因?yàn)椋厣渚€的信號(hào)激發(fā)深度深于電子束，利用該設(shè)備還可以檢測(cè)更深層次樣品的信息。

XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù)，利用該技術(shù)，即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管將Ｘ射線源的大部分射線收集，并將其聚焦成直徑35微米的一個(gè)Ｘ射線點(diǎn)。
      利用QUANTAX EDS*系統(tǒng)的 XFlash®系列電制冷能譜探頭即可對(duì)所產(chǎn)生的Ｘ射線熒光光譜進(jìn)行采集。 XFlash®電制冷能譜探頭使整個(gè)系統(tǒng)具備了非常高的能量分辨率，同時(shí)兼具了強(qiáng)大的信號(hào)采集能力。比如，利用有效面積 30 mm²的探頭在分析金屬元素時(shí)的輸入計(jì)數(shù)率可達(dá) 40 kcps。
      Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù)使熒光強(qiáng)度得到極大的增強(qiáng)，同時(shí)，熒光光譜的背底較低，這些都提高了系統(tǒng)對(duì)痕量元素的敏感度。相較于電子束激發(fā)的信號(hào)，其檢測(cè)限可提高 20-50倍。而且，因?yàn)椋厣渚€源激發(fā)信號(hào)對(duì)于高原子序數(shù)元素更有效，所以高原子序數(shù)元素檢測(cè)限可提高至 10ppm。
       QUANTAX能譜儀系統(tǒng)和微區(qū)熒光光譜儀系統(tǒng)可在同一用戶界面內(nèi)結(jié)合使用，從而互相補(bǔ)強(qiáng)，實(shí)現(xiàn)定量分析結(jié)果的優(yōu)化。

用戶友好型設(shè)計(jì)
聚焦于分析任務(wù)，而非繁瑣的系統(tǒng)設(shè)置
       利用ESPRIT HyperMap進(jìn)行面分布分析的同時(shí)采集了所有的數(shù)據(jù)并存儲(chǔ)，便于后續(xù)的離線分析。
       樣品可利用 EDS系統(tǒng)和 micro-XRF系統(tǒng)并行進(jìn)行分析，而無(wú)需任何的樣品移動(dòng)。
       兩種分析方法無(wú)縫整合在同一分析軟件 ESPRIT中，切換分析方法只需輕點(diǎn)鼠標(biāo)。
       XTrace不會(huì)干擾任何 SEM及EDS操作。
僅需點(diǎn)滴投入，即可獲得獨(dú)立微區(qū)熒光光譜儀的強(qiáng)大功能
       分析結(jié)果可與獨(dú)立系統(tǒng)媲美。
       樣品傾斜后可對(duì)更大區(qū)域進(jìn)行面分布
       提供三個(gè)初級(jí)濾片以壓制衍射峰
       直接利用掃描電鏡樣品臺(tái)，無(wú)需其他的樣品臺(tái)裝置。
       通過(guò)掃描電鏡樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)輕松避免譜圖中衍射峰的出現(xiàn)。
       可傾斜樣品以獲得小束斑直徑。